Semiconductor quartz wafer

Ang Semixlab Semiconductor Quartz Wafer usa ka precision-polish, ultra-high-purity fused silica substrate nga gidisenyo alang sa lisud nga mga palibot sa pagproseso sa semiconductor.

Kini kaylap nga gigamit isip dummy wafer, carrier wafer, optical substrate, ug photomask base sa thermal oxidation, CVD/LPCVD, PECVD, ug lithography systems.

Gihimo gikan sa 99.99% nga taas nga kaputli nga SiO₂, kini nga quartz wafer nagtanyag og talagsaong thermal stability, chemical inertness, ug optical transparency, nga nagsiguro sa lig-on ug walay kontaminasyon nga operasyon sa mga abante nga linya sa paggama sa semiconductor.

Ⅰ. Materyal ug mga Kabtangan sa Ibabaw

● Materyal: Sintetiko o natural nga gisagol nga silica (SiO₂ ≥ 99.99%).

● Mga Kapilian sa Diametro: 2", 4", 6", 8", 12" (mahimo nimong i-customize ang gidak-on).

● Katapusan sa Ibabaw: Doble nga kilid nga gipasinaw, patag nga ≤ 5 μm, kagaspang sa ibabaw ≤ 0.5 nm.

● Resistensiya sa Init: Lig-on hangtod sa 1200°C nga padayon nga operasyon.

● Koepisyente sa Pagpalapad sa Init: 5.5 × 10⁻⁷ /°C.

● Optical Transmission: >90% gikan sa 190 nm hangtod 2,600 nm.

Ang matag wafer moagi sa estrikto nga inspeksyon sa nawong, beripikasyon sa dimensyon, ug pag-analisar sa kaputli aron masiguro ang hingpit nga pagsunod sa mga kinahanglanon sa semiconductor-grade.

Ⅱ. Mga Pangunang Gimbuhaton sa mga Proseso sa Semiconductor

1. Tigdala sa Proseso sa mga Sistema sa CVD ug LPCVD

Ang mga quartz wafer gigamit isip dummy o spacer wafe aron mapalig-on ang pag-agos sa gas ug ang pagkaparehas sa temperatura atol sa SiO₂, Si₃N₄, ug polysilicon thin-film deposition. Ang ilang dimensional precision nagsiguro sa parehas nga pagtubo sa film ug gamay nga pagmugna og particle sa tibuok deposition cycles.

2. Mga Aplikasyon sa Oksidasyon ug Pagsabwag sa Hurno

Sa mga proseso sa oksihenasyon ug pagsabwag sa dopant nga taas ang temperatura, ang mga quartz wafer nagsilbing mga thermal shield o mga monitor sa proseso, nga nagmintinar sa parehas nga pag-apod-apod sa temperatura ug nagpugong sa kontaminasyon sa mga production wafer.

3. Paggamit sa Optikal ug Litograpiya

Tungod sa taas nga optical transmittance ug refractive index uniformity niini, ang quartz wafer sulundon alang sa paggama sa photomask, DUV exposure substrates, ug optical calibration tools. Gigarantiya niini ang makanunayon nga transmission sa kahayag para sa i-line, KrF2, ug ArF3 lithography systems.

4. Mga Palibot sa Plasma ug Pag-ukit

Sa mga sistema sa dry etching ug plasma CVD, ang mga quartz wafer gigamit isip mga chamber shield o plasma windows, nga nagtanyag og maayo kaayong dielectric strength ug chemical durability batok sa mga halogen-based gases (CF₄, SF₆, Cl₂).

5. Metrolohiya ug Kalibrasyon sa Kagamitan

Ang mga quartz wafer nagsilbing reference wafer para sa kalibrasyon sa gibag-on sa pelikula, temperatura, ug pagkapatas niini. Ang ilang hamis kaayo ug walay depekto nga nawong nagtugot sa tukma ug masubli nga mga resulta sa pagsukod, nga nagsiguro sa kalig-on sa pagkontrol sa proseso.

Kasagarang Paggamit

● Dummy wafer para sa mga sistema sa CVD, LPCVD, ug PECVD

● Tigdala sa proseso o panagang sa kainit sa mga hurnohan sa oksihenasyon ug pagsabwag

● Substrate sa photomask para sa UV/DUV lithography

● Reference wafer para sa kalibrasyon ug metrolohiya sa kagamitan

● Panalipod sa bintana ug proseso sa pag-ukit sa plasma chamber

Ang Semixlab Semiconductor Quartz Wafer usa ka high-performance substrate nga gidesinyo alang sa labing lisud nga mga proseso sa semiconductor. Ang thermal stability, optical precision, ug chemical purity niini naghimo niini nga importante kaayo sa mga aplikasyon sa deposition, oxidation, lithography, ug metrology. Uban sa komprehensibo nga customization ug engineering support, ang Semixlab naghatag og mga solusyon nga makapadako sa process consistency, yield reliability, ug operational efficiency. Kami nanghinaut nga mahimong inyong long-term partner sa China.