Taas nga kaputli nga quartz diffusion Tube

Ang Semixlab High Purity Quartz Diffusion Tube espesipikong gidesinyo alang sa mga proseso sa thermal nga taas ang temperatura sa paggama sa semiconductor, lakip ang oxidation, dopant diffusion, ug annealing.

Gihimo gikan sa ultra-high purity fused silica (≥99.99% SiO₂), ang matag tubo gidisenyo aron maghatag ug talagsaong kemikal nga kalig-on, gamay nga kontaminasyon, ug tukma nga thermal uniformity—nga nagsiguro sa makanunayon nga pagproseso sa wafer sa lisud nga mga palibot sa limpyo nga kwarto.

Bisan kon gi-integrate sa vertical o horizontal diffusion furnaces, ang mga quartz tube sa Semixlab tukma nga giporma ug hingpit nga gisulayan aron matuman ang estrikto nga mga kinahanglanon sa IC, LED, MEMS, ug power device fabrication.

Mga Aplikasyon sa Mga Proseso sa Semiconductor

1. Thermal Oxidation

Sa mga thermal oxidation furnace, ang quartz diffusion tubes nagsilbing pangunang reaction chamber diin ang mga silicon wafers gibutyag sa O₂ o H₂O nga alisngaw sa taas nga temperatura (900–1150°C).

● Naghatag og limpyo ug lig-on nga palibot nga adunay oksiheno para sa parehas nga pagtubo sa SiO₂.

● Nagwagtang sa kontaminasyon sa metal ion, nga nagsiguro sa taas nga dielectric integrity para sa gate ug isolation oxides.

Ang taas nga kaputli sa quartz diffusion tube sulundon alang sa pagproseso sa wafer

2. Pagsabwag sa Dopant

Ang mga tubo sa pagsabwag sa quartz gigamit sa pagsabwag sa mga atomo sa dopant (sama sa phosphorus o boron) ngadto sa silicon substrate aron makahimo og gitinguha nga mga profile sa junction.

● Ang maayo kaayong kemikal nga inertness makapugong sa kontaminasyon atol sa mga reaksyon sa POCl₃ o BBr₃.

● Nagmintinar sa taas nga kaputli bisan sa mga atmospera nga nakabase sa halogen.

3. Mga Proseso sa Annealing ug Drive-In

Human sa ion implantation o deposition, ang mga wafer moagi sa high-temperature annealing aron ma-activate ang mga dopant ug ayohon ang kadaot sa lattice.

● Ang mga tubo sa quartz naghatag og usa ka lawak nga parehas sa kainit, ubos sa kontaminasyon para sa lig-on ug masubli nga mga resulta.

● Angay alang sa parehong N₂ ug pagporma og gas annealing nga palibot.

4. LPCVD ug R&D nga Pagproseso sa Init

Sa gagmay nga LPCVD o mga research furnace, ang mga quartz diffusion tube mahimong magsilbing reaction ug containment chamber.

● Maayo alang sa pagbutang og polysilicon, silicon nitride, ug oxide films.

● Nagsiguro sa gamay nga pagporma sa partikulo ug taas nga pagkasubli sa tanang pagdagan.

Mga Bentaha sa Semixlab

1. Kaputli sa Materyal ug Pagkamasubay

Ang matag tubo sa quartz ginama gikan sa ultra-pure fused silica nga gikan sa mga sertipikado nga supplier. Ang mga report sa pag-analisa sa ICP-MS anaa kon hangyoon, nga naggarantiya sa pagkasubay sa matag batch.

2. Paggama ug Pag-customize sa Tukma

Ang Semixlab nagtanyag og gipahaom nga mga disenyo aron matubag ang piho nga mga sukod sa hurno, mga thermal profile, ug mga sumbanan sa pag-agos sa gas nga gikinahanglan sa mga kustomer.

Mga kapilian naglakip sa:

● Bertikal o pinahigda nga mga konpigurasyon sa tubo

● Gipahiangay nga mga diametro, gibag-on sa dingding, ug mga flanges sa tumoy

● Pinasinaw o gikulit nga mga pagkahuman sa nawong

● Espesyal nga mga disenyo sa pagdumala para sa mga multi-wafer carrier

3. Hugot nga Pagsulay ug Pagsiguro sa Kalidad

Ang matag diffusion tube moagi sa dimensional inspection, surface integrity testing, ug thermal stress simulation sa dili pa ipadala. Kini nagsiguro sa pagkaangay niini sa mga nanguna sa industriya nga diffusion furnace systems sama sa TEL, Kokusai, Centrotherm, ug ASM.